Вы здесь
Семинар «Информатика, управление и системный анализ»


ОБЩЕРОССИЙСКИЙ СЕМИНАР «ИНФОРМАТИКА, УПРАВЛЕНИЕ И СИСТЕМНЫЙ АНАЛИЗ»
под общим руководством
Академика РАН Юрия Ивановича Журавлева
Академика РАН Евгения Ивановича Моисеева
Академика РАН Станислава Николаевича Васильева
Академика РАН Юрия Соломоновича Попкова
организатор и ученый секретарь семинара
профессор Михаил Васильевич Ульянов
Общероссийский семинар поддерживает связь с УМО «Математические и компьютерные науки» и УМС по фундаментальной информатике и прикладной математике в интересах российских университетов.
Сайт семинара: www.commonmind.ru
ЗАСЕДАНИЕ № 31
Вторник 16 мая 2017 г., 17-30, ауд. 685 ВМК МГУ
ПОВЕСТКА ДНЯ
1. Научный доклад: «ПРИНЦИПЫ, МЕТОДЫ И ПРЕИМУЩЕСТВА ГОЛОГРАФИЧЕСКОЙ ЛИТОГРАФИИ»
Докладчик: д.ф.-м.н, проф., гл. научный сотрудник Института проблем механики им. А.Ю. Ишлинского РАН профессор Механико-математического факультета МГУ им. М.В. Ломоносова Алексей Станиславович Шамаев.
Аннотация
Доклад посвящен новому методу создания интегральных микросхем — субволновой голографической литографии. Суть метода состоит в использовании для создания светового изображения микросхем голографической пластинки вместо классической проекционной маски. Этот метод обладает рядом радикальных преимуществ, прежде всего в силу крайне слабой чувствительности изображения, полученного с помощью голограммной пластины к локальным дефектам на пластине. Голограммную маску можно также изготовить с помощью только крупных отверстий (зон пропускания) на пластине, что радикально снижает стоимость изготовления.
Рассматриваются методы ускоренного компьютерного расчета координат и размеров зон пропускания голограммной пластины.